| 品牌 | 其他品牌 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 医疗卫生,食品/农产品,化工,生物产业,制药/生物制药 |
Hellma氟化钙LD-A-级CaF₂晶体具备化学惰性
化学惰性与环境稳定性
LD-A-级CaF₂晶体具备 化学惰性，在常温下不与强酸（除浓H₂SO₄、HF外）、强碱、有机溶剂发生反应，可耐受半导体光刻工艺中的光刻胶、显影液、蚀刻液等化学环境的腐蚀，表面无变色、溶蚀现象。晶体表面经疏水/疏油镀膜处理后，水接触角≥110°，可有效防止水汽、油污吸附，在高湿度（RH≤95%）环境下使用无潮解、雾化问题。
此外，晶体的抗辐射性能经优化，在193nm高功率激光长期辐照（累计能量≥10⁶ J/cm²）下，无明显的色心形成，光学性能衰减≤1%，远优于普通CaF₂晶体（衰减≥5%），保障光学元件的长寿命使用，降低高光学系统的维护成本。
Hellma LD-A-级CaF₂（193nm）核心技术参数表
| 参数类别 | 具体指标 | 测试条件/说明 |
| 线性吸收系数 | ≤0.001 cm⁻¹ | λ=193nm，室温 |
| 193nm透光率 | ≥92% | 厚度10mm，未镀膜 |
| 光学均匀性 | Δn≤1×10⁻⁶/cm | 20℃，λ=632.8nm |
| 双折射 | ≤5×10⁻⁷ | 193nm波段 |
| 热膨胀系数 | 18.9×10⁻⁶ K⁻¹ | 20℃~200℃ |
| 热导率 | 9.7 W/(m·K) | 25℃ |
| 维氏硬度 | 158 HV | 500g载荷 |
| 抗激光辐照性能 | 性能衰减≤1% | 累计能量≥10⁶ J/cm²@193nm |
| 表面粗糙度 | Ra≤0.5nm | 抛光面 |
| 化学惰性 | 耐酸碱/有机溶剂（除HF、浓H₂SO₄） | 常温，浸泡72小时沈阳汉达森yyds吴亚男 |
