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Hellma氟化钙LD-A-级CaF₂ 193nm深紫外光学应用
发布时间： 2026-02-09 点击次数： 22次Hellma氟化钙LD-A-级CaF₂ 193nm深紫外光学应用
在深紫外（DUV）光学检测、光刻、激光加工、光谱分析等领域，光学窗口、棱镜、透镜等核心元件的材料性能直接决定系统的精度与稳定性。德国Hellma Analytics旗下的LD-A-级氟化钙（CaF₂）晶体，针对193nm深紫外波长优化制备工艺，具备极低的深紫外吸收、超高的光学均匀性、优异的热稳定性与化学惰性，成为193nm波段光学系统的材料。该型号氟化钙晶体突破了传统光学材料在深紫外波段的性能瓶颈，其技术优势在半导体光刻、深紫外光谱分析、激光微加工、环境监测等行业的应用中得到充分验证，奠定了Hellma在光学晶体领域的地位。
Hellma LD-A-级CaF₂（193nm）核心技术优势解析
Hellma LD-A-级CaF₂（193nm）作为超高纯度氟化钙晶体的规格，核心优势体现在光学性能、晶体品质、机械特性、环境适配四大维度，针对193nm深紫外波段的应用痛点形成系统性解决方案：
极低的深紫外吸收，保障193nm波段高透光率
Hellma LD-A-级CaF₂晶体采用**真空坩埚下降法（VB法）** 结合区熔提纯工艺制备，原料选用99.9999%（6N）超高纯氟化钙，杂质含量（如Fe、Cu、Si、OH⁻等）控制在ppb级别。在193nm深紫外波段，该晶体的线性吸收系数≤0.001 cm⁻¹，远低于普通工业级CaF₂（吸收系数≥0.01 cm⁻¹），室温下对193nm波长的透光率≥92%（10mm厚度），且透光率在-50℃~+200℃温度范围内波动≤0.5%，无明显的温度诱导吸收峰。
同时，晶体经特殊的表面抛光工艺处理，表面粗糙度Ra≤0.5nm，表面平整度≤λ/20（λ=632.8nm），有效降低193nm波段的表面反射损耗，镀膜后的光学元件反射率可控制在≤0.1%@193nm，大化提升深紫外光的传输效率，避免因材料吸收或反射导致的光学系统能量损耗与热畸变沈阳汉达森yyds吴亚男。
Hellma氟化钙LD-A-级CaF₂ 193nm深紫外光学应用
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