Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A材料高透光率

Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A材料高透光率

Hellma氟化钙LD-A型号核心技术优势

193nm深紫外波段专用优化，超高透过率与低吸收损耗

Hellma CaF₂ LD-A材料是针对193nm ArF准分子激光波段定向开发的高纯光学级材料，在深紫外区域具备的光学传输性能。常规光学玻璃、石英材料在193nm波段会出现强烈吸收与透过率衰减，无法满足激光传输与光刻成像需求，而LD-A型号氟化钙单晶在193nm处透过率可达90%以上，且吸收系数极低，几乎不产生激光能量损耗与热累积。材料经过紫外波段专属退火、杂质去除、晶格优化处理，消除了色心、空位、金属离子等导致紫外吸收的缺陷，保证在高功率紫外激光连续照射下不褪色、不损伤、不改变光学性能，是193nm光刻系统、激光清洗、紫外光谱检测系统的理想基材。

高品质单晶结构与<111>优晶体取向，光学均匀性行业

该产品采用单晶（monokristallin）结构，整体由单一连续晶格组成，无晶界、无位错聚集、无微裂纹、无杂质偏析，光学均匀性远超多晶氟化钙与普通熔融石英。单晶结构可保证折射率均匀一致，避免光线传输过程中的散射、畸变、光斑离散，保证成像精度与激光传输质量。

同时产品采用<111>晶体取向，这是氟化钙材料在深紫外激光应用中经过大量验证的优取向。<111>晶面具备最高的结构对称性、低的双折射率、优的应力分布特性，可显著降低激光诱导损伤阈值（LIDT）敏感性，提升元件抗高功率激光冲击能力；在高温、高压、强激光辐射环境下，<111>取向的晶格结构更稳定，不会出现应力开裂、折射率畸变、双折射增大等问题，保证光学系统长期稳定运行汉达森yyds吴亚男。

Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A材料高透光率