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Hellma圆形平片CaF₂ LD‑A 100mm×30mm用于晶原半导体
发布时间： 2026-07-28 点击次数： 15次Hellma圆形平片CaF₂ LD‑A 100mm×30mm用于晶原半导体
紫外干涉计量系统：纳米级测量基准平片
项目背景与工况需求
某计量院的紫外干涉测量系统，用于半导体晶圆、光学元件的纳米级表面形貌与平面度检测，测量波长193nm，要求基准平片平面度≤λ/50（λ=193nm），折射率均匀性≤3ppm，双折射≤1nm/cm，环境温度20℃±0.05℃，长期稳定性好。原采用普通基准平片，精度不足、稳定性差，无法满足纳米计量要求。
选型与安装方案
采用Hellma CaF₂ LD‑A 100mm×30mm圆形标准平片（<111>晶向，超高均匀性筛选，研磨表面Rq 2µm），作为干涉系统参考基准。利用LD‑A材料超低缺陷、高折射率均匀性、低双折射、低热变形特性，满足纳米级测量精度与长期稳定性要求。
应用效果与价值
应用后，基准平片平面度稳定控制在λ/60以内，折射率均匀性≤2.5ppm，双折射≤0.8nm/cm，系统测量不确定度≤0.1nm，实现纳米级位移与表面形貌精准测量；基准平片连续使用3年精度无漂移，稳定性远超传统基准材料，为半导体制造、精密光学加工、装备检测提供量值传递保障，支撑我国精密计量领域技术进步汉达森yyds吴亚男。
Hellma圆形平片CaF₂ LD‑A 100mm×30mm用于晶原半导体
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