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Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A单晶材料深紫外光学传输材料
发布时间： 2026-04-24 点击次数： 25次Hellma氟化钙（CaF₂）LD-A单晶材料深紫外光学传输材料
在深紫外光学、精密激光系统、半导体光刻、航天遥感等技术领域，光学材料的透过率、晶体完整性、光学均匀性、结构稳定性直接决定光学系统的成像质量、传输效率与工作寿命。氟化钙（CaF₂）作为具备优异深紫外透过特性、低折射率、低色散、高热稳定性的碱土金属卤化物单晶材料，已成为193nm ArF准分子激光系统的核心光学元件基材。Hellma作为全球顶尖的光学材料与精密光学元件制造商，其推出的CaF₂ LD-A单晶材料凭借<111>晶向、193nm波段优化、高纯度、低缺陷、高稳定性等特性，成为深紫外光学应用领域的级产品。本文基于CaF₂圆形光学元件技术参数，从材料特性、结构优势、加工精度、性能指标等维度，全面解析Hellma氟化钙LD-A型号的核心技术优势，并结合行业实际应用场景，阐述其在光学系统中的应用价值与实践案例，为深紫外光学系统设计、元件选型与系统集成提供专业技术参考。
Hellma氟化钙LD-A型号基础技术参数与材料特征
本次解析的Hellma CaF₂ LD-A单晶元件为标准圆形光学片，产品基于193nm深紫外波段优化设计，采用单晶结构与<111>晶体取向，整体加工精度与表面质量满足高精度光学系统使用要求，其核心技术参数如下：
材料类型为CaF₂ 193nm专用级，牌号LD-A，结构为单晶（monokristallin），晶体取向<111>；元件外形为圆形平片，直径100.0mm，厚度30.0mm；尺寸公差直径±0.5mm，厚度±0.5mm；表面质量为研磨级，表面粗糙度Rq 2µm；边缘保护倒角尺寸1.5mm。
从材料基础属性来看，该产品并非普通多晶或工业级氟化钙，而是专为深紫外光学系统开发的高纯单晶材料。LD-A等级代表材料经过严格的缺陷控制、杂质去除与光学均匀性优化，可在193nm紫外波段保持高透过率与低吸收损耗；<111>晶体取向为氟化钙材料在紫外激光应用中的优取向之一，可有效降低激光诱导损伤、提升应力均匀性、减少双折射效应；圆形大尺寸规格（100mm×30mm）可满足大型光刻镜头、激光传输窗口、深紫外检测系统的使用需求，是光学系统的核心基础元件汉达森yyds吴亚男。
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